展覧会・催し物

美術史は天才によって生み出された傑作について語ることを好みますが、アーティストたちは傑作とは成功よりもある種の失敗から生まれることを知っています。
版画はその入り組んだ制作プロセスのために、失敗や間違いの機会を豊富に与えてくれます。この展覧会に参加するアーティストたちはそうした経験を共有し、「失敗」からの着想を通して生まれた作品を発表します。版画による「ずれ」＝ 失敗 がしばしば新たな作品に繋がることから、私たちはこの展覧会を「ずれた」と名づけました。
5大陸14カ国における19校もの大学から若いアーティストたちを迎え、ここに彼らの「ずれた」作品と取り組みを紹介できることを嬉しく思います。
　　　　

【シンポジウム】
日時: 2017年5月26日（金）- 5月28日（日） 午前10時 － 午後6時
会場: 東京藝術大学大学美術館 陳列館2階
キーノート・スピーカー：　リサ・ブルワスキー（ワシントン大学セントルイス）、ヤン・スヴェヌングソン（ウィーン応用芸術大学）、三井田 盛一郎（東京藝術大学）

「不完全さ」とはミスプリント、失敗や誤解などに似て、物事を更新していく為の絶え間ない源泉です。それは創造力を突き動かす、全世界共通のエンジンと言えるでしょう。
このシンポジウムでは様々な国のアーティストや研究者たちが予期せぬ失敗の結果が、いかに新たなアートを生み出すきっかけとなり得るか議論します。
すべての参加者たちが芸術表現として版画を用いることから、全世界の同志たちが「失敗」という着想をどのように捉え用いているのかについてこのシンポジウムが学びの場となることを願っています。 版画はマスメディアとその社会を起源に生まれたがゆえ、そこには常にメディアが孕む「間違いとは何か」という問いかけが必要なのです。

シンポジウムの詳細スケジュールはこちら→https://hanga.tokyo/zureta/schedule/